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半導體製程設備
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SCM-800 光罩清洗機
產 品 特 徵
可程式化控制三軸 ─ 自動 Chemical/DI water 噴灑清洗及熱氮氣吹乾系統。
清洗製程可程式化控制 。
使用二流體噴頭,液體消耗量及清潔能力優於傳統機台。
消防安全裝置及防爆設計。
人性化螢幕觸碰控制介面及安全停止系統。
雙層保護的安全設計-清洗槽具備安全開關門,再加上外開關門,避免chemical 誤灑。
混酸加熱系統-針對各種藥液作加溫及混合動作。
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